碳化硅激光器
關(guān)鍵詞 碳化硅激光器 |2010-12-23 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱碳化硅激光器公開號1304195公開日2001.07.18主分類號H01S3/16
名稱 |
碳化硅激光器 |
公開號 |
1304195 |
公開日 |
2001.07.18 |
主分類號 |
H01S3/16 |
分類號 |
H01S3/16 |
申請?zhí)?/strong> |
99120120.5 |
分案原申請?zhí)?/strong> |
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申請日 |
1999.12.13 |
頒證日 |
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優(yōu)先權(quán) |
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申請人 |
張洪濤 |
地址 |
430074湖北省湖北工學(xué)院電氣工程與計算機科學(xué)系 |
發(fā)明人 |
張洪濤 |
國際申請 |
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國際公布 |
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進(jìn)入國家日期 |
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專利代理機構(gòu) |
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代理人 |
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摘要 |
碳化硅(SiC)粉體激光器是一種單頻、強度連續(xù)可調(diào)的新型激光器。它需要激光來泵浦,并且隨泵浦激光的頻率不同,碳化硅(SiC)粉體出射的激光頻率也不同。碳化硅(SiC)粉體出射的激光為空間全方位的。碳化硅(SiC)粉體的平均粒徑從微米級到納米級均可,或納米到微米級的混合體。SiC的顆粒形狀可為球狀、不規(guī)則狀或纖維狀、晶須等形狀。產(chǎn)生激光的碳化硅(SiC)粉體要求一定的厚度和面積,一般為面積不小于50μm#+[2],厚度大于0.5μm。 |
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