申請?zhí)枺?01680002430.4
　　申請人：新明和工業(yè)株式會社
　　發(fā)明人：植村賢介 阿列克謝·G·列姆涅夫

　　摘要： 本發(fā)明以提供一種除膜方法為技術(shù)問題，該除膜方法是對由像PCD(聚晶金剛石)那樣的無機(jī)物包覆的刀具、機(jī)械零件等進(jìn)行除膜以能夠進(jìn)行再利用的方法，進(jìn)行離子照射時在被除膜基材(包覆件)不易產(chǎn)生死角，在溫度方面在基材(金屬制構(gòu)件)不易產(chǎn)生脆性相，并且，能夠經(jīng)濟(jì)且快速地進(jìn)行除膜。該除膜方法是向在金屬制構(gòu)件的表面附著由無機(jī)物構(gòu)成的覆膜而成的包覆件(1)照射離子流(7)、從所述金屬制構(gòu)件剝離所述覆膜的除膜方法，其特征在于，將包覆件(1)設(shè)置在兩個以上的離子流(7)重疊的離子流集中部(7A)，不向包覆件(1)施加正負(fù)偏壓地向包覆件(1)照射離子流(7)，利用這樣的除膜方法能夠解決所述技術(shù)問題。

　　主權(quán)利要求：1.一種除膜方法，其是向在金屬制構(gòu)件的表面附著由無機(jī)物構(gòu)成的覆膜而成的包覆件照射離子流、從所述金屬制構(gòu)件剝離所述覆膜的除膜方法，其特征在于，將所述包覆件設(shè)置于兩個以上的離子流重疊的離子流集中部，使所述包覆件向大地接地，向所述包覆件照射所述離子流。