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納米金剛石涂層的制備方法及納米金剛石刀片

關(guān)鍵詞 納米 , 金剛石涂層 , 金剛石刀片|2016-05-03 09:13:27|行業(yè)專利|來(lái)源 中國(guó)超硬材料網(wǎng)
摘要 申請(qǐng)?zhí)枺?01510987674.X申請(qǐng)人:富耐克超硬材料股份有限公司發(fā)明人:許立李丙文摘要:本發(fā)明提供一種納米金剛石涂層的制備方法,具體步驟包括:采用物理氣相沉積法在硬質(zhì)合金基體...
  申請(qǐng)?zhí)枺?01510987674.X
  申請(qǐng)人:富耐克超硬材料股份有限公司
  發(fā)明人:許立 李丙文

  摘要:本發(fā)明提供一種納米金剛石涂層的制備方法,具體步驟包括:采用物理氣相沉積法在硬質(zhì)合金基體表面沉積一層過(guò)渡層;然后經(jīng)超納米金剛石懸浮液超聲清洗獲得硬質(zhì)合金沉淀前處理體;并采用化學(xué)氣相沉積法,在所述硬質(zhì)合金沉淀前處理體表面沉積納米金剛石涂層。本發(fā)明還提供一種納米金剛石刀片,包括刀片基體和采用上述方法依次沉淀在所述刀片基體表面的過(guò)渡層和納米金剛石涂層。由上述方法制備的納米金剛石涂層與所述硬質(zhì)合金基體具有較強(qiáng)的結(jié)合力,使得所述納米金剛石刀片具有較高的加工精度和較長(zhǎng)的使用壽命。

  主權(quán)利要求:1.一種納米金剛石涂層的制備方法,包括以下步驟:沉積過(guò)渡層:采用物理氣相沉積法在硬質(zhì)合金基體表面沉積一層過(guò)渡層,獲得含有過(guò)渡層的硬質(zhì)合金基體;超聲清洗:將所述含有過(guò)渡層的硬質(zhì)合金基體置于超納米金剛石懸浮液中進(jìn)行超聲清洗20~50min,經(jīng)干燥處理后獲得硬質(zhì)合金沉淀前處理體;沉積納米金剛石涂層:采用化學(xué)氣相沉積法在所述硬質(zhì)合金沉淀前處理體表面沉積一層納米金剛石層,制得納米金剛石涂層。
  2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米金剛石涂層的制備方法,其特征在于,所述過(guò)渡層的厚度為3~5μm,所述過(guò)渡層的沉淀材料包括鉬、鈦、鉻、鈮、鎳、氮化硅、氧化鋁中的一種或幾種材料的組合。
  3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的納米金剛石涂層的制備方法,其特征在于,所述物理氣相沉積方法為磁控濺射法或電弧離子鍍法。
  4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的納米金剛石涂層的制備方法,其特征在于,所述化學(xué)氣相沉積法為熱絲化學(xué)氣相沉積法或微波等離子體化學(xué)氣相沉積法。
  5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的納米金剛石涂層的制備方法,其特征在于, 所述熱絲化學(xué)氣相沉積法的具體工藝為:在壓力為2kPa,溫度為2300℃~2500條件下,利用熱絲化學(xué)氣相沉積法,以H2、CH4為反應(yīng)氣體源在所述鎢鈷合金沉淀前處理體上反應(yīng)6~8小時(shí)形成納米金剛石涂層,其中,CH4氣體體積在總反應(yīng)氣體源體積的1%~5%。
  6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的納米金剛石涂層的制備方法,其特征在于, 所述微波等離子體化學(xué)氣相沉積法的具體工藝為:在壓力為13kPa,溫度為700℃~900℃條件下,利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積法,以H2、CH4為反應(yīng)氣體源在所述鎢鈷合金沉淀前處理體上反應(yīng)6~10小時(shí)形成納米金剛石涂層,其中,微波功率為7kW,CH4氣體體積在總反應(yīng)氣體源體積的1%~5%。
  7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米金剛石涂層的制備方法,其特征在于,所述超納米金剛石懸浮液的制備步驟具體包括: 首先將平均粒徑為4~50nm的超納米金剛石顆粒懸浮在溶劑中,配制成顆粒數(shù)目濃度為1017~1020/g的濃超納米金剛石懸浮液;然后取2~5mL所述濃超納米金剛石懸浮液滴入10~50mL的超純水中,攪拌均勻進(jìn)行稀釋從而制得所述超納米金剛石懸浮液;其中,所述超純水是指電阻率大于15M?·cm的去離子水。
  8.一種納米金剛石刀片,包括刀片基體和依次沉積在所述刀片基體表面的過(guò)渡層和納米金剛石涂層,其特征在于,所述納米金剛石涂層是由權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的納米金剛石涂層的制備方法制備的。
  9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的納米金剛石刀片,其特征在于,所述納米金剛石涂層中的納米金剛石顆粒的平均粒徑為30~100nm。
  10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的納米金剛石刀片,其特征在于,所述納米金剛石涂層的表面粗糙度為50~100nm。
 

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