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一種高溫碳化硅半導(dǎo)體材料制造裝置

關(guān)鍵詞 碳化硅 , 半導(dǎo)體材料 , 制造裝置 |2010-12-23 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱一種高溫碳化硅半導(dǎo)體材料制造裝置公開號1327092公開日2001.12.19主分類號C30B25/02&nbs

 

名稱 一種高溫碳化硅半導(dǎo)體材料制造裝置 
公開號 1327092  公開日 2001.12.19   
主分類號 C30B25/02  分類號 C30B25/02;C30B29/36 
申請?zhí)?/strong> 00109107.7   
分案原申請?zhí)?/strong>   申請日 2000.06.07   
頒證日   優(yōu)先權(quán)  
申請人 中國科學院半導(dǎo)體研究所    地址 100083北京市912信箱  
發(fā)明人 李晉閩;孫國勝;朱世榮;曾一平;孫殿照;王雷    國際申請  
國際公布   進入國家日期  
專利代理機構(gòu) 中科專利商標代理有限責任公司    代理人 湯保平   
摘要   一種高溫碳化硅半導(dǎo)體材料制造裝置,包括前級進樣室、樣品傳遞裝置、樣品生長裝置、插板閥和抽氣設(shè)備;其中樣品傳遞裝置、前級進樣室、插板閥和樣品生長裝置通過標準CF或標準VCR依序連接密封在一直線上;前級進樣室和樣品生長裝置的下方連接有一抽氣設(shè)備;本發(fā)明其是兼有高生長速率和原位及實時監(jiān)測的新型碳化硅寬帶隙材料的高真空制造裝置,能夠克服上述現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)缺陷,能夠滿足碳化硅器件對材料的要求。
 

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